HAUS LABS
BASE TRICLONE SKIN TECH 175 LIGHT NEUTRAL
BASE TRICLONE SKIN TECH 175 LIGHT NEUTRAL
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Una base de maquillaje de alto rendimiento reinventada con una fórmula limpia enriquecida con ingredientes para el cuidado de la piel. Enriquecida con árnica fermentada patentada y más de 20 ingredientes para el cuidado de la piel, esta innovadora base de cobertura media modulable se siente ligera para un acabado luminoso y natural que se funde con la piel durante todo el día.
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